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高纯金属碳靶材 C靶材 磁控溅射靶材

更新日期:2023-06-28
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 高纯金属碳靶材 C靶材  磁控溅射靶材 电子镀膜蒸发料  纯度:99.99% 中文名  碳 分子量 12.01 化学物质登录号 7440-44-0 EINECS登录号 231-153-3 熔    点 3500C   沸    点 4827℃ 标签: C靶材 碳靶材   C靶材 碳靶材   北京市高纯金属   北京市高纯金属厂家
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